微波等离子去胶机用于光刻胶的去除

2014-06-09

1. 光刻胶的去除


      微波等离子清洗相比其他技术形式的等离子清洗方式,有着一致性高,对产品无害,清洗彻底的优点。在光刻胶的去除应用中,微波等离子清洗可以相当容易完成,而且完成效果很好。

2. SU-8的去除/ 牺牲层的去除


      Alpha Plasma Asia微波等离子清洗设备可以轻松完成对SU-8光刻胶的安全清除。有研究所实验室以及生产应用的大量案例证明微波等离子清除SU-8和牺牲层是非常成功的。

3.高分子聚合物的去除


      只需要通过Alpha Plasma Asia微波等离子清洗设备的简单处理,就能通过微波产生的自由基将高分子聚合物完全清除干净,包括在很深且狭窄尖锐的沟槽里的聚合物。达到其他清理方式很难完成的效果。

4.等离子Descum 去除残胶/去浮渣/打底膜


      我们都知道一个物理常识,如果孔洞转角尖锐,金属液体是很难流进去的。那是因为尖锐的转角增加了它表面的张力,从而影响了金属液体流动。而等离子Descum可以将很深洞中或其他很深地方将光刻胶的残留物去除掉。