Q 240

典型应用:

等离子去胶,适合大批量生产,也适合于研发、实验室和小批量生产。

• 去除光刻胶
• 干刻或湿刻处理前或后

• SU-8或其他环氧基树脂

• MEMS制造中去除牺牲层

  • 商品介绍
  • 规格参数
  • 技术规格:

    •等离子源:2.45Ghz微波等离子源,1200W
    •腔体    :石英.φ240mm,长460mm,21L

               适用于Wafer最大200mm(8英寸)批量生产

    •外观尺寸:长760mm,宽775mm,高775mm
    •处理气体:3路气体+数字MKS流量控制器
    •真空腔门:抽屉式门+观察窗

    •温控Wafer Chuck

    •观察窗  :UV与微波屏蔽保护
    •GUI 10.4"触摸屏,Window CE操作系统

    选项:
    •进口干泵系统(含相关附件)

    •法拉第笼

    •石英舟

    信号灯塔-红黄绿三色
    •额外的处理气体线路-最多至4路气体
    •包装,运输